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電鍍層測厚儀技術(shù)推薦

瀏覽次數(shù):967發(fā)布日期:2023-07-08

鍍鋅層測厚儀技術(shù)推薦鍍層厚度測試方法一般有以下幾種方法:

光學(xué)顯微鏡法。適用標(biāo)準(zhǔn)為:GB/T6462-2005

利用金相顯微鏡原理,對鍍層厚度進(jìn)行放大,以便準(zhǔn)確的觀測及測量。該方法需要對樣品進(jìn)行破壞性分割,對橫切面進(jìn)行放大測量。

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、X-ray法(X射線法)。適用標(biāo)準(zhǔn)為:GB/T16921-2005

庫侖法,此法一般為仲裁方法。適用標(biāo)準(zhǔn)為:GB/T4955-2005

利用適當(dāng)?shù)碾娊庖宏枠O溶解限定面積的覆蓋層,電解池電壓的急劇變化表明覆蓋層實(shí)質(zhì)上溶解,經(jīng)過所耗的電量計(jì)算出覆蓋層的厚度。因陽極溶解的方法不同,被測量覆蓋層的厚度所耗的電量也不同。用恒定電流密度溶解時(shí),可由試驗(yàn)開始到試驗(yàn)終止的時(shí)間計(jì)算;用非恒定電流密度溶解時(shí),由累積所耗電量計(jì)算,累積所耗電量由電量計(jì)累計(jì)顯示。


而X-ray法(X射線法)鍍鋅層測厚儀是目前常用的一種無損檢測方案,該方法的應(yīng)用優(yōu)勢為:

X熒光射線(XRF)測厚儀器特點(diǎn) 

1、鍍層分析快速、無損,對樣品無需任何處理。一般測試一個(gè)點(diǎn)只需要數(shù)10秒~3分鐘,分析高。

    X熒光分析儀鍍鋅層測厚儀是光物理測量,其對測試樣品不會(huì)產(chǎn)生任何的物理、化學(xué)變化,因此,其屬于無損測量。同時(shí)對測試的樣品不需要任何處理,分析速度更加快捷。

2、可測試超薄鍍層,如:在測試鍍金產(chǎn)品時(shí),可測試0.01米的鍍層厚度,這是其他測厚設(shè)備無法達(dá)到的。

     X熒光通過射線的方式來檢測鍍層的厚度,因此,其對樣品的表面物質(zhì)測試為靈敏,因此,其非常適合測試超薄鍍層,也是目前超薄鍍層常用的測量方法。

3、可測試多鍍層,分析遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其他測量方法。

X射線具有一定的穿透能力,因此,在測試鍍層時(shí),它可以穿透多層鍍層,通過每層鍍層產(chǎn)生的特征X射線計(jì)算其厚度,并可分析其鍍層的組成。

4、可分析合金鍍層厚度和成分比,這是其他測厚設(shè)備不能做到的。   

5、對于樣品可進(jìn)行連續(xù)多點(diǎn)測量,適合分析鍍層的厚度分布情況并可以對樣品的復(fù)雜面進(jìn)行測量。

    由于X熒光的無損分析方法,同時(shí)儀器高度的自動(dòng)化控制技術(shù),保證測試中可以進(jìn)行連續(xù)多點(diǎn)測量,不但提高測試效率,同時(shí)可以分析測試樣的厚度分布情況。

6、對分析的多鍍層每層之間的材料,要求有明顯的區(qū)別,即,每層樣品元素有明顯的差別。

     由于X熒光是通過特征X射線,對被測樣品進(jìn)行厚度分析的,因此每層鍍層的材料應(yīng)有明顯的區(qū)別。

7、不可以測試超厚樣品,普通金屬鍍層總厚度一般不超過30微米。根據(jù)各種元素的能量不同,測量范圍都不相同,如:

  原子序25~40,約0.01~30um原子序41~51,約0.02~70um,但是陶瓷上的涂層因?yàn)槊芏认鄬ζ胀ń饘匐婂児に?密度會(huì)小,所以可以測試更厚,比如未燒結(jié)的MoMn涂層可以測試150微米以上.   

8、可以對極小樣品進(jìn)行測試,例如:螺絲、電路板焊盤、接插件的插針等??梢詫射線照射在樣品的光斑調(diào)到很小的地步(可以達(dá)到微米級,因此,超小樣品的測試非常容易。

9、鍍鋅層測厚儀屬于對比分析儀器,測試不同的鍍層樣品需要不同的鍍層標(biāo)樣,雖然有FP法的測試軟件,但在精準(zhǔn)測試中,一定需要標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行校對,因此,企業(yè)應(yīng)用中采用標(biāo)樣校對的方法是常見的。

10、針對不同的鍍層測試對象,可選擇不同結(jié)構(gòu)的X熒光分析儀器。例如:上照射和下照射的設(shè)備;探測器分為正比計(jì)數(shù)器和半導(dǎo)體探測器的等,他們都有各自的優(yōu)缺點(diǎn)。

2.

鍍鋅層測厚儀的特點(diǎn):

3.1 鍍鋅層測厚儀Think800A是專門針對鍍層厚度測量、鍍層元素種類及含量的快速無損分析的需求,特設(shè)計(jì)的一款產(chǎn)品;

3.2 采用上照式結(jié)構(gòu),以滿足不規(guī)則表面樣品的測試要求;

3.3 采用美國型的Si-pin探測器,高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn);

3.4 采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測試高度,以滿足不同規(guī)格樣品的鍍層測試。同時(shí)定位激光定位光斑,以確保測試點(diǎn)與光斑對齊;

3.5 高移動(dòng)平臺可定位測試點(diǎn),重復(fù)定位小于0.005mm;

3.6 內(nèi)置φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器,可以滿足微小測試點(diǎn)的鍍層測試;

3.7 多重防輻射泄露設(shè)計(jì),具有良好的射線屏蔽作用; 

3.8 內(nèi)置高移動(dòng)平臺,通過測試軟件可視化操作:鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺,鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測點(diǎn);

3.9 采用網(wǎng)口傳輸數(shù)據(jù),數(shù)據(jù)傳輸穩(wěn)定且快。



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